Установка водоподготовки для очистки воды, использующейся при нанесении гальванических покрытий.
Мы завершили пусконаладочные работы установки водоподготовки для очистки технической воды, использующейся при нанесении гальванических покрытий.
Очищенная вода применяется для выполнения промывочных операций и для приготовления технологических растворов. Общая производительность установки 10 м3/час.
Перед подачей на двухступенчатую установку обратного осмоса вода с окисляемостью 20 мг O2/л и мутностью 30 мг/л проходит через тонкослойный отстойник и очищается от присутствующих в воде органических примесей, железа, марганца на осветлительных, обезжелезивающих, и сорбционных фильтрах.
Часть воды после 1-й ступени используется на промывочных операциях на участке гальванического покрытия.
Остальная часть поступает на 2-ую ступень мембранного обессоливания производительностью 5 м3/час для получения воды с удельной электропроводностью не более 5 мкСм.
Пермеат на выходе 2-й ступени соответствует воде 3 категории по ГОСТ 9.314-90 и используется на приготовление технологических растворов для нанесения гальванических покрытий.
Работа установок обратного осмоса и узлов введения реагентов управляется контроллерами Mitsubishi и выполнена в нескольких ростовых шкафах.
Для обеспечения бесперебойной работы линии по нанесению гальванических покрытий установка укомплектована специальными емкостями, которые оборудованы ультрафиолетовыми стерилизаторами для исключения вторичного микробиологического загрязнения. Кроме того все насосы установки имеют горячий и холодный резерв.
Оформите заявку на сайте, мы свяжемся с вами в ближайшее время и ответим на все интересующие вопросы.
|
Написать сообщение
|